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  • EVG6200 NT掩模對準光刻系統

    EVG6200 NT掩模對準光刻系統 特色:EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

    更新時間:2021-01-20
    型號:
    廠商性質:代理商
    瀏覽量:339
  • IQ Aligner 自動掩模對準系統

    IQ Aligner 自動掩模對準系統 用于自動非接觸近距離掩模對準光刻,進行了處理和優化,用于晶圓片的尺寸高達200毫米。

    更新時間:2019-10-28
    型號:
    廠商性質:代理商
    瀏覽量:247
  • EVG610EVG單面/雙面掩模對準光刻機

    EVG單面/雙面掩模對準光刻機EVG610(單面/雙面掩模對準光刻機 微流控 納米壓印)支持各種標準光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對準方式。此外,該系統還提供其他功能,包括鍵合對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工,以滿足不斷變化的用戶需求,轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶,非常適合大學和研發應用。

    更新時間:2019-10-28
    型號:EVG610
    廠商性質:代理商
    瀏覽量:1921
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