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FR-ES:精簡膜厚測量儀

簡要描述:FR-ES膜厚測量儀是一款輕巧便捷膜厚測量分析系統。 使用FR-ES,用戶可以在370-1020nm光譜范圍內進行反射率和透射率測量。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-06-09
  • 訪  問  量: 583

詳細介紹

FR-ES: 精簡薄膜厚度測量特性分析系統

FR-ES是一款輕巧便捷膜厚測量分析系統。 使用FR-ES,用戶可以在370-1020nm光譜范圍內進行反射率和透射率測量。

1、膜厚儀應用
o 大學 & 研究實驗室
o 半導體
o 聚合物和光刻膠 厚度測量
o 化學測量
o 介電材料膜厚度測量
o 生物醫學
o 硬涂層,陽極氧化, 金屬零件加工
o 光學鍍膜
o 非金屬薄膜
o 還有更多…(請聯系我們提出您的應用)

FR-ES機型提供出色的膜厚測量分析性能。可用于各種不同的應用,例如:薄膜厚度、折射率、顏色、透射率、反射率等等.

FR-ES機型提供三種波長范圍配置: VIS/NIR (370- 1020nm, NIR-N1 (850-1050nm), NIR (900-1700nm).

       這里有很多可選的配件:

  • 濾光片可阻擋某些光譜范圍內的光

  • FR-Mic提供微米級別區域進行測量

  • 手動載物臺,  100x100mm或 200x200mm

  • 薄膜/比色皿支架用于吸光度/透射率和化學濃度測量的薄膜/比色皿支架

  • 積分球積分球用于漫反射和全反射反射率測量

       通過不同模塊的組合設置滿足任何蕞終用戶的需求。

2、特征

o    單擊分析(無需初始值)

o    動態測量連續測量

o    n & k、色座標測量

o    保存測量的圖像和視頻

o    Multiple installations for off-line analysis

o    免廢軟件更新

3、FR-ES規格(標準配置)

 

機型

VIS/NIR

NIR

NIR-N1

WL Range -nm Pixels

Min Thick -SiO2 Max Thick SiO2 Max Thick -Si

n&k -Min. Thickness Thick. Accuracy *,** Thick. Precision*,**

Thick. stability *,**

370 –1020

3648

12nm 100um

 

100nm 1nm / 0.2% 0.05nm

0.05nm

900 – 1700

512

50nm 250um

 

500nm 3nm / 0.4% 0.1nm

0.15nm

850-1050

3648

1um 500um 300um

 

50nm / 0.2%

Light Source Integration Time Spot size

Material Database Dimensions/Weight

Power

Halogen (internal), 10000h (MTBF)

5msec (min)

Diameter of 350um (smaller spot size as option)

> 700 different materials 20x22x6cm (LxWxH), 1.8Kg (stage excluded)

110V/230V, 50-60Hz, 10W

 

4、配件

 

計算機

筆記本電腦/觸摸屏PC,19英寸屏幕

聚焦模塊

安裝在反射探頭上的光學模塊,用于直徑<100μm的光斑尺寸

膜厚/比色皿套件

標準比色皿中的薄膜或液體進行透射測量

接觸探頭

曲面樣品的反射率和厚度測量,具有高橫向分辨率的基于顯微鏡的反射率和厚度測量

顯微鏡

用于測量涂層和表面的鏡面反射和漫反射

積分球sphere

手動X-Y平臺,用于測量100mm x 100mm或200mm x 200mm的區域

 

 

FR-ES 膜厚測量儀 部件.jpg

FR-ES 膜厚測量儀 部件2.jpg

5、膜厚測量儀工作原理

       白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經多層或單層薄膜反射后,經各層薄膜介面界面干涉產生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學常數。

       *規格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代裱光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。

 

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