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接近式光刻機

簡要描述:EVG101接近式光刻機基本功能:研發和小規模生產中的單晶圓光刻膠加工。基本功能:研發和小規模生產中的單晶圓光刻膠加工。

  • 產品型號:EVG101
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-02-18
  • 訪  問  量: 2285

詳細介紹

EVG101-接近式光刻機基本功能:研發和小規模生產中的單晶圓光刻膠加工。

一、 簡介
EVG101接近式光刻機在單室設計上可以滿足研發工作,與EVG的自動化系統完全兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓,可配置為旋涂或噴涂和顯影。使用EVG先進的OmniSpray涂層技術,在3D結構晶圓上實現光刻膠或聚合物的共形層,用于互連技術。這確保了高粘度光致光刻膠或聚合物的低材料消耗,同時改善了均勻性并防止了擴散。
二、接近式光刻機技術參數:
晶圓尺寸:高達300mm(12寸)
支持模式:旋涂/ OmniSpray®/生長
晶圓支撐模式:單臂/雙EE/邊緣/翻動
分配模式:
- 各種分配泵,可覆蓋高達52000cP的各種粘度
- 恒壓分配系統
- EBR / BSR /預濕/碗洗/液體灌注

三、特征:

晶圓尺寸可達300 mm
自動旋涂或噴涂或使用手動晶圓裝載/卸載進行顯影
利用從研究到生產的快速簡便的過程轉換
成熟的模塊化設計和標準化軟件
注射器分配系統,用于利用小的光刻膠體積,包括高粘度光刻膠
占地面積小,同時保持高水平的個人和過程安全性
多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)
選項:
- 采用OmniSpray®涂層技術均勻涂覆晶圓的高表面形貌
- 用于后續鍵合工藝的蠟和環氧樹脂涂層
- 旋涂玻璃(SOG)涂層

 

 

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