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EVG單面/雙面掩模對準光刻機

簡要描述:EVG單面/雙面掩模對準光刻機EVG610(單面/雙面掩模對準光刻機 微流控 納米壓印)支持各種標準光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對準方式。此外,該系統還提供其他功能,包括鍵合對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工,以滿足不斷變化的用戶需求,轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶,非常適合大學和研發應用。

  • 產品型號:EVG610
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2019-10-28
  • 訪  問  量: 1920

詳細介紹

  EVG單面/雙面掩模對準曝光機介紹:
 
  EVG®610(單面/雙面掩模對準曝光機 微流控 納米壓印??)是一款緊湊型多功能研發系統,可處理零碎片和大200 mm的晶圓。
 
  EVG610(單面/雙面掩模對準曝光機 微流控 納米壓印)支持各種標準光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對準方式。此外,該系統還提供其他功能,包括鍵合對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工,以滿足不斷變化的用戶需求,轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶,非常適合大學和研發應用。
 
  應用:
 
  MEMS,RF器件,功率器件,化合物半導體等方面的圖形光刻應用。
 
  EVG單面/雙面掩模對準曝光機特征
 
  1、晶圓/基片尺寸從零碎片到200毫米/ 8英寸
 
  2、頂部和底部對準功能
 
  3、高精度對準
 
  4、自動楔形補償序列
 
  5、電動的和程序控制的曝光間隙
 
  6、支持先進的UV-LED技術
 
  7、小化系統占地面積和設施要求
 
  8、分步流程指引
 
  9、遠程技術支持
 
  10、多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同語言)
 
  11、敏捷的處理和轉換重新加工
 
  12、臺式或獨立式帶防振花崗巖臺面
 
  附加功能:
 
  1.鍵合對準
 
  2.紅外對準
 
  3.納米壓印光刻(NIL)
 
  【技術參數】
 
  1.掩模版-基板-晶圓尺寸
 
  掩模版尺寸:5寸/7寸/9寸
 
  基片/晶圓尺寸:100mm/150mm/200mm
 
  晶圓厚度:高達10mm
 
  2.對準模式
 
  頂部對準精度:≤ ± 0,5 µm
 
  底部對準精度:≤ ± 2,0 µm
 
  紅外對準模式:≤ ± 2,0 µm/取決于基片的材料
 
  3.頂部顯微鏡
 
  移動范圍1:100mm(X軸:32-100mm;Y軸:-50/+30mm;)
 
  移動范圍2:150mm(X軸:32-150mm;Y軸:-75/+30mm;)
 
  移動范圍1:200mm(X軸:32-200mm;Y軸:-100/+30mm;)
 
  可選:平坦的物鏡可以增加光程;帶有環形燈的暗場物鏡,可以增加對比度
 
  4.底部顯微鏡
 
  移動范圍1:100mm(X軸:30-100mm;Y軸:±12mm;)
 
  移動范圍2:150mm(X軸:30-100mm;Y軸:±12mm;)
 
  移動范圍1:200mm(X軸:30-100mm;Y軸:±12mm;)
 
  可選:平坦的物鏡可以增加光程;帶有環形燈的暗場物鏡,可以增加對比度
 
  5.曝光器件
 
  (1)波長范圍:
 
  NUV:350 - 450 nm
 
  DUV:低至200 nm (可選)
 
  (2)光源:
 
  汞燈350W , 500W UV LED燈
 
  (3)均勻性:
 
  150mm:≤ 3%
 
  200mm:≤ 4%
 
  (4)濾光片:
 
  汞燈:機械式
 
  UV LED:軟件可調
 
  6.曝光模式
 
  接觸:硬、軟接觸,真空
 
  曝光間隙:1 - 1000 µm
 
  線寬精度:1µm
 
  模式:CP(Hg/LED)、CD(Hg/LED)、 CT(Hg/LED) 、CI(LED)
 
  可選:內部,浸入,扇形
 
  7.可選功能
 
  鍵合對準精度:≤ ± 2,0 µm
 
  納米壓抑光刻(NIL)精度:≤ ± 2,0 µm
 
  納米壓抑光刻(NIL)軟印章分辨率:≤ 50 nm圖形分辨率
 
  8.設施
 
  真空:< 150 mbar
 
  壓縮氣體:6 bar
 
  氮氣:可選2或者6 bar
 
  排氣要求:汞燈需要;LED不需要
 
  9.系統方式
 
  系統:windows
 
  文件分享和軟件備份
 
  無限程序儲存,參數儲存在程序內
 
  支持多語言,含中文
 
  實時遠程支持,診斷和排除故障
 
  10.楔形補償
 
  全自動- 軟件控制
 
  11.規格(單面/雙面光刻機 微流控加工 掩模對準)
 
  占地面積:0.55m²
 
  高度:1.01m
 
  重量:約250kg
 
  納米壓印分辨率:≤ 40 nm(取決于模板和工藝)
 
  支持工藝:Soft UV-NIL
 

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