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  • EVG101接近式光刻機

    EVG101接近式光刻機基本功能:研發和小規模生產中的單晶圓光刻膠加工。基本功能:研發和小規模生產中的單晶圓光刻膠加工。

    更新時間:2021-02-18
    型號:EVG101
    廠商性質:代理商
    瀏覽量:2285
  • EVG620 NT-掩模對準光刻機系統

    EVG620 NT-掩模對準光刻機系統EVG ® 620 NT提供國家的本領域掩模對準技術在小化的占位面積,支持高達150毫米晶圓尺寸。

    更新時間:2019-10-28
    型號:
    廠商性質:代理商
    瀏覽量:1043
  • EVG610-單面、雙面光刻系統

    EVG610-單面、雙面光刻系統 EVG光刻機EVG®610是一款緊湊型多功能研發系統,可處理零碎片和大200 mm的晶圓。

    更新時間:2021-01-20
    型號:
    廠商性質:代理商
    瀏覽量:295
  • EVG6200 NT掩模對準光刻系統

    EVG6200 NT掩模對準光刻系統 特色:EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

    更新時間:2021-01-20
    型號:
    廠商性質:代理商
    瀏覽量:339
  • IQ Aligner 自動掩模對準系統

    IQ Aligner 自動掩模對準系統 用于自動非接觸近距離掩模對準光刻,進行了處理和優化,用于晶圓片的尺寸高達200毫米。

    更新時間:2019-10-28
    型號:
    廠商性質:代理商
    瀏覽量:247
  • EVG101光刻膠測量

    研發和小規模生產中的單晶圓光刻膠加工。$nEVG101光刻膠測量在單室設計上可以滿足研發工作,與EVG的自動化系統完全兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓,可配置為旋涂或噴涂和顯影。

    更新時間:2021-06-09
    型號:EVG101
    廠商性質:代理商
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